供应真空镀膜电源，离子镀膜电源

本公司生产的真空镀膜电源（真空蒸发镀膜电源和真空溅射镀膜电源）有以下特点：

1、恒流输出，不随气压变化。

2、抑制靶材弧光放电及抗短路功能, 具有的负载匹配能力。

3、工艺重复性好。

4、提高成膜速度， 实现高质量的溅射膜层。
 详细说明：
                                         真空镀膜电源                                      

真空镀膜行业不同于以往的电镀行业，属于物理方式的表面处理行业。广泛用于各种金属及非金属镀膜装置，涂镀光元件、微电子元件、磁性元件、钟表、种类装饰材料、体育用品、精密工模具、薄膜包装等镀膜制品，以及应用于现代工业、航空航天航海等军事领域的镀耐蚀膜、耐磨损膜、固体润滑膜装置。    真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度                                                                             （HV,UHV）而拥有统一名称。真空镀膜主要分类有两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。                                                      

一、对于蒸发镀膜： 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。                                                                    

二 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
     真空镀膜电源是真空镀膜设备的重要组成部分。例如在真空溅射设备中就是由溅射室、磁控溅射靶、对向磁控靶、射频电源、直流电源、样品加热转台、真空获得及测量系统、电控系统、气路系统、微机控制膜层系统等组成。      

     本公司自主研发生产的真空镀膜电源，成功地运用了优异的脉宽调制技术（PWM），引进三菱、富士等国外先进的IGBT核心执行元件，大功率机器采用结构均流技术，并配以各种完善的保护功能，使得高频开关电源可靠性问题得到了圆满解决，满足低纹波要求，且体积小、重量轻、节能环保，是一种性价比优异的直流电源产品，也是可控硅整流电源的替代品。                  

·                              技术参数

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